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制備硅-硅化鐵復合納米線的方法

1123   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:42:51
Si/β-FeSi2復合納米結(jié)構(gòu)屬于復合一維半導體納米功能材料。該復合材料是經(jīng)過離子注入、高溫退火、濺射Si層和化學腐蝕四大主要步驟后形成的含有納米Si和納米FeSi2顆粒的復合納米線陣列。在該方法中,可以分別通過改變離子注入的劑量以及退火溫度來控制β-FeSi2薄膜的厚度和β-FeSi2顆粒的粒徑。具有半導體性質(zhì)的Si/β-FeSi2復合納米材料由于其優(yōu)異的光電性能在新型光電器件,熱電器件應用方面有著很好的發(fā)展前景,是一種環(huán)保型且極具應用前景的光電材料。
聲明:
“制備硅-硅化鐵復合納米線的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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