本發(fā)明公開了屬于無(wú)機(jī)
復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域的一種采用三羥甲基類分子制備極易插層功能水滑石的方法。其制備步驟為:將可溶二價(jià)金屬氯鹽、可溶三價(jià)金屬氯鹽和三羥甲基類分子的混合溶液進(jìn)行水熱反應(yīng),所得沉淀分散到Na2CO3溶液中離子交換,離心洗滌,干燥,即得三羥甲基類分子修飾的水滑石;然后加入到功能陰離子溶液中,在無(wú)氮?dú)獗Wo(hù)下攪拌反應(yīng),最后離心洗滌,真空干燥,即得功能陰離子插層水滑石。通過(guò)將具有三腳支架結(jié)構(gòu)的三羥甲基類分子引入到水滑石合成過(guò)程中,起到控制層板尺寸,降低層板晶格能,降低水滑石層間離子交換難度的作用。解決了多酸等功能陰離子插入水滑石層間難度大,需要氮?dú)獗Wo(hù)的問(wèn)題。
聲明:
“采用三羥甲基類分子制備極易插層功能水滑石的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)