本發(fā)明公開了一種消減黃曲霉毒素的綠色方法。將含黃曲霉毒素的樣品充分接觸用于消減黃曲霉毒素的復合薄膜,復合薄膜先選擇性吸附脫除樣品中黃曲霉毒素,然后將復合薄膜置于太陽光或氙燈光源下照射,逐步降解黃曲霉毒素,所述用于消減黃曲霉毒素的復合薄膜包括基底和基底上的g?C3N4/WO3
復合材料,g?C3N4為片層結構,WO3納米顆粒均勻分散在片層g?C3N4表面,結合緊密,形成復合半導體光催化材料。
聲明:
“消減黃曲霉毒素的綠色方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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