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抗輻照高熵合金/陶瓷多層薄膜及其制備方法

1031 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-18 17:53:02

本發(fā)明公開了一種抗輻照的高熵合金/陶瓷多層薄膜，包括交替沉積的TaWTiVMo高熵合金層和氧化鋁層；高熵合金層包括以下質量百分數(shù)的元素：28％～32％Ta，30％～36％W，15％～20％Ti，8％～13％V，余量是Mo，TaWTiVMo高熵合金層為體心立方結構；氧化鋁層中有納米空洞。本發(fā)明還公開了一種抗輻照的高熵合金/陶瓷多層薄膜的制備方法。本發(fā)明利用高熵合金薄膜和Al2O3薄膜，制備納米尺度的多層薄膜，二者形成的多層復合材料增加了晶界密度，顯著提升輻照環(huán)境下工作的電子設備元件的抗輻照性能。

聲明：

“抗輻照高熵合金/陶瓷多層薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)