本實(shí)用新型分流式CVD沉積室涉及
復(fù)合材料制備領(lǐng)域,具體涉及化學(xué)氣相沉積,特別涉及一種分流式CVD沉積室,包括中空的沉積室筒體和進(jìn)氣室,所述進(jìn)氣室內(nèi)設(shè)置有一進(jìn)氣管,沉積室筒體的一端與進(jìn)氣室相連,另一端上設(shè)置有一沉積室蓋,所述沉積室蓋上設(shè)置有一出氣口,所述分氣板上均布有若干個(gè)進(jìn)氣孔,所述分氣板上還設(shè)置有一引氣裝置,氣體提升裝置設(shè)置在分氣板上,且通過(guò)分氣板上的進(jìn)氣孔與進(jìn)氣室相連;氣體分布裝置位于氣體提升裝置上方。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,沉積效率高、制品增密快,利用氣體提升裝置和氣體分布裝置將進(jìn)氣管中的氣流提升,有效解決因高度不同而帶來(lái)的制品增密情況不均勻的問題,且生產(chǎn)效率高,降低生產(chǎn)成本。
聲明:
“分流式CVD沉積室” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)