本發(fā)明涉及一種在鋁酸鋰晶片上制備圖形襯底的方法,包括:提供鋁酸鋰晶片;用飛秒激光沿平行的方向多次掃描所述鋁酸鋰晶片的表面,形成多個平行的溝槽,得到鋁酸鋰晶片圖形襯底。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明采用飛秒激光在鋁酸鋰晶片上刻蝕圖形襯底,通過改變飛秒激光的聚焦功率,可以調(diào)整溝槽的深寬比,與濕法或干法刻蝕相比,操作簡單,更易獲得較大深寬比的圖形襯底。
聲明:
“在鋁酸鋰晶片上制備圖形襯底的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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