本發(fā)明屬于材料制備和分離技術(shù)領(lǐng)域,涉及鋰/銣離子吸附材料的制備,尤其涉及一種同步吸附鋰/銣離子的多級孔硅吸附劑的制備及應(yīng)用。先制備納米結(jié)晶纖維素,然后通過模板法,以NCC為硬模板、CTAB為軟模板,TMS?EDTA為配體,RbCl為模板離子,制得含有銣離子印跡層的多級孔硅材料,并用硫酸溶液去除模板;再采用沉淀聚合法以MAA為配體,螯合鋰離子的12C4為模板分子,EGDMA為交聯(lián)劑,以AIBN為引發(fā)劑制備鋰離子印跡層,并包覆在多級孔硅材料表面;使用硝酸溶液去除鋰離子模板,制備而成。本發(fā)明用高比表面多級孔硅材料,運用離子印跡技術(shù)利用高選擇性配體對鋰/銣離子的選擇性作用提高對鋰/銣離子吸附效率,制備過程簡單易操作、吸附率高,具有一定的實用價值。
聲明:
“同步吸附鋰/銣離子的多級孔硅吸附劑的制備及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)