本申請公開了一種鈮酸鋰薄膜電光調(diào)制器,所述鈮酸鋰薄膜電光調(diào)制器包括襯底晶片(1)、鈮酸鋰薄膜基板(2)、鈮酸鋰光波導(dǎo)(3)、鈮酸鋰薄膜內(nèi)襯(4)、行波電極(5)、保護(hù)層(6)和引出電極(7),通過改進(jìn)一般設(shè)計中電光調(diào)制器中的行波電極結(jié)構(gòu),將金屬電極(5)部分區(qū)域覆蓋在刻蝕區(qū)域,部分覆蓋在鈮酸鋰薄膜內(nèi)襯(4)上,在電極間距相同的情況下,增加了微波的有效折射率,從而實現(xiàn)波速匹配,提高電光調(diào)制器帶寬。本申請還提供一種鈮酸鋰薄膜電光調(diào)制器的制備方法,基于本方案中的行波電極結(jié)構(gòu),直接對鈮酸鋰薄膜進(jìn)行刻蝕得到需要的波導(dǎo)結(jié)構(gòu),減小刻蝕區(qū)域,降低工藝難度和成本。
聲明:
“鈮酸鋰薄膜電光調(diào)制器及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)