本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰襯底的波長可調(diào)諧的調(diào)制器及其制造方法,包括襯底晶片、晶體載塊、光纖、封裝管殼和排線限位機構(gòu),所述晶體載塊置于封裝管殼內(nèi),所述光纖的一端和晶體載塊連接,另一端貫穿封裝管殼,所述襯底晶片的上表面設(shè)置有鈮酸鋰薄膜基板,且鈮酸鋰薄膜基板上設(shè)置有光學(xué)波導(dǎo),所述鈮酸鋰薄膜基板的上表面設(shè)置有緩沖層薄膜;本發(fā)明的有益效果是:通過設(shè)計的排線限位機構(gòu),利用限位座、彈簧、抵塊和凸耳的搭配,增加了光纖的排線限位效果,解決了傳統(tǒng)中的光纖排線限位不便的問題;通過設(shè)計的導(dǎo)向組件,增加了第一管殼單體和第二管殼單體連接時的定位,使得第一管殼單體和第二管殼單體安裝更高效,從而實現(xiàn)了封裝管殼的快速拆裝。
聲明:
“鈮酸鋰襯底的波長可調(diào)諧的調(diào)制器及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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