本發(fā)明公開了一種基于鉻掩膜的鈮酸鋰薄膜亞微米線寬脊型光波導(dǎo)制備方法,包括以下步驟:獲取待加工的鈮酸鋰薄膜樣品;使用電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)在所述鈮酸鋰薄膜樣品表面沉積鋁膜,在鋁膜表面旋涂光刻膠,用電子束曝光光刻機(jī)將掩膜圖案刻在樣品上;將樣品放置于顯影液中進(jìn)行顯影,用電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)在樣品表面沉積鉻膜;將樣品放入剝離液中,去除光刻膠,留下鉻掩膜圖形;利用電感耦合等離子體對樣品進(jìn)行刻蝕,得到鈮酸鋰薄膜亞微米線寬脊型光波導(dǎo)。該方法可以制備獲得亞微米級(jí)線寬的脊型光波導(dǎo),且光波導(dǎo)的側(cè)壁垂直度高,基于此工藝加工的鈮酸鋰光波導(dǎo)器件體積小,易集成,具有良好的光約束條件。
聲明:
“基于鉻掩膜的鈮酸鋰薄膜亞微米線寬脊型光波導(dǎo)制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)