本發(fā)明涉及一種硅和鈮酸鋰混合集成光調(diào)制器,包括絕緣體上硅基光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)、光學(xué)分束結(jié)構(gòu)、硅楔形波導(dǎo)光學(xué)模式轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)、鍵合介質(zhì)層、鈮酸鋰波導(dǎo)、信號(hào)金屬電極和接地金屬電極,其中絕緣體上硅基光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與光學(xué)分束結(jié)構(gòu)的輸入端連接,光學(xué)分束結(jié)構(gòu)的兩個(gè)輸出端分別通過(guò)硅楔形波導(dǎo)光學(xué)模式轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)與鈮酸鋰波導(dǎo)連接;所述信號(hào)金屬電極設(shè)置在鈮酸鋰波導(dǎo)結(jié)構(gòu)相對(duì)的一側(cè);接地金屬電極設(shè)置在鈮酸鋰波導(dǎo)結(jié)構(gòu)相背的一側(cè);所述混合集成光調(diào)制器是一種雙層結(jié)構(gòu):硅基光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)、光學(xué)分束結(jié)構(gòu)、硅楔形波導(dǎo)光學(xué)模式轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)設(shè)置在鍵合介質(zhì)層內(nèi),鈮酸鋰波導(dǎo)、信號(hào)金屬電極和接地金屬電極設(shè)置在鍵合介質(zhì)層上方。
聲明:
“硅和鈮酸鋰混合集成光調(diào)制器及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)