本發(fā)明提供了一種鈮酸鋰調(diào)制器及其靜態(tài)偏置點(diǎn)無源補(bǔ)償方法,所述調(diào)制器包括有金屬行波電極,還包括有絕緣體上鈮酸鋰薄膜以及靜態(tài)偏置點(diǎn)補(bǔ)償材料層,所述靜態(tài)偏置點(diǎn)補(bǔ)償材料層覆蓋在絕緣體上鈮酸鋰薄膜上。所述方法包括有通過刻蝕或剝離工藝在鈮酸鋰薄膜層上覆蓋靜態(tài)偏置點(diǎn)補(bǔ)償材料層。本發(fā)明避免了溫度對(duì)鈮酸鋰調(diào)制器靜態(tài)偏置點(diǎn)的影響,實(shí)現(xiàn)了靜態(tài)偏置點(diǎn)補(bǔ)償?shù)墓δ堋?
聲明:
“鈮酸鋰調(diào)制器及其靜態(tài)偏置點(diǎn)無源補(bǔ)償方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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