一種鈮酸鋰晶體高效超光滑化學(xué)機(jī)械拋光方法,屬于非線性光學(xué)晶體超精密加工技術(shù)領(lǐng)域。其特征是樣品為鈮酸鋰晶片,采用固結(jié)磨料研磨、保持環(huán)硬拋光墊拋光、保持環(huán)軟拋光墊化學(xué)機(jī)械拋光相結(jié)合的加工方法,硬拋光墊為合成革或聚氨酯拋光墊,軟拋光墊為無紡布或絨毛拋光墊。化學(xué)機(jī)械拋光液的pH值為10.2-10.6,含有氧化鈰、氧化硅、氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧化鋇、高錳酸鉀、雙氧水、檸檬酸、醋酸、草酸中的四種。固結(jié)磨料研磨時間為15-25min,硬拋光墊拋光時間為50-70min,化學(xué)機(jī)械拋光時間為3-6min?;瘜W(xué)機(jī)械拋光的材料去除率為420-460nm/min,拋光后鈮酸鋰的平面度為3.8-5.5μm,表面粗糙度Ra為0.35-0.5nm,PV值為3.8-6nm。本發(fā)明的效果和益處是實(shí)現(xiàn)了非線性光學(xué)晶體高效超光滑拋光方法。
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“鈮酸鋰晶體高效超光滑化學(xué)機(jī)械拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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