本發(fā)明提供一種波導(dǎo)調(diào)制器以及波導(dǎo)調(diào)制器制備方法,其中,所述波導(dǎo)調(diào)制器包括:第一波導(dǎo)層、第二波導(dǎo)層和鈮酸鋰層;其中,所述鈮酸鋰層鍵合設(shè)置于所述第一波導(dǎo)層和所述第二波導(dǎo)層之間。通過本發(fā)明提供的波導(dǎo)調(diào)制器,可以具有低半波電壓?長度積、高調(diào)制速率、低插入損耗的光場相位調(diào)控性能。
聲明:
“波導(dǎo)調(diào)制器以及波導(dǎo)調(diào)制器制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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