本發(fā)明的二氧化硅系被膜形成用組合物,含有硅氧烷聚合物和堿金屬化合物。作為該硅氧烷聚合物,優(yōu)選具有水解性基團的
硅烷化合物的水解縮合物。作為上述堿金屬化合物的堿金屬,可使用鈉、鋰、鉀、銣和銫等。另外,作為上述堿金屬化合物,可列舉上述堿金屬的硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、氧化物、氯化物、溴化物、氟化物、碘化物、氫氧化物的等。該二氧化硅系被膜形成用組合物也可以含有空穴形成用材料。作為該空穴形成用材料,可使用選自聚亞烷基二醇及其末端烷基化物的一種以上。
聲明:
“二氧化硅系被膜形成用組合物” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)