本發(fā)明公開一種無(wú)機(jī)微涂膜基材及其制造方法,該無(wú)機(jī)微涂膜基材包括基材以及無(wú)機(jī)微涂膜層,無(wú)機(jī)微涂膜層位于基材上,無(wú)機(jī)微涂膜層為無(wú)機(jī)微涂膜組合物,無(wú)機(jī)微涂膜組合物包括硅氧根離子溶液、鋰離子溶液以及鉀離子溶液,其中將硅氧根離子溶液、鋰離子溶液與鉀離子溶液均勻混合而成無(wú)機(jī)微涂膜組合物。該無(wú)機(jī)微涂膜基材的制造方法,包括提供基材,將基材以無(wú)機(jī)酸鹽進(jìn)行表面改質(zhì)以及提供無(wú)機(jī)微涂膜組合物,將無(wú)機(jī)微涂膜組合物涂覆于基材上,并烘烤而成無(wú)機(jī)微涂膜層。本發(fā)明中無(wú)機(jī)微涂膜基材的物性與化性均優(yōu)于陽(yáng)極處理的基材,因此本發(fā)明可用以替代需使用大量電解液的陽(yáng)極處理制程,為優(yōu)良的環(huán)保制程技術(shù)。
聲明:
“無(wú)機(jī)微涂膜基材及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)