本發(fā)明涉及爆破片技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種激光雕刻的中低壓力爆破片,爆破片的雕刻曲線為優(yōu)弧曲線,所述的優(yōu)弧的圓心角角度為315?330度,所述爆破片形狀為厚度0.15mm的正圓形圖形,其外直徑Φ18mm,其雕刻直徑Φ10mm,本發(fā)明既有激光雕刻爆破片的雕刻精度又有比機(jī)械雕刻更加準(zhǔn)確的爆破點(diǎn),爆破壓力的浮動值控制在很小的浮動空間內(nèi),爆破精度高比較適用于鋰離子電池、氫燃燒電池的防爆閥應(yīng)用。
聲明:
“平板型中低爆破壓力激光雕刻爆破片” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)