本發(fā)明涉及一種利用氨水插層、剝離二維晶體碳化鈦
納米材料的方法,將二維晶體碳化鈦材料加入到氨水中,利用高速剪切機(jī)進(jìn)行插層、剝離,再經(jīng)清洗、真空干燥后得到層間距增大的二維晶體碳化鈦納米材料。本發(fā)明的二維晶體碳化鈦納米材料層間距較大,可在一定程度克服碳化鈦之間的團(tuán)聚效應(yīng),增大其比表面積,提高其在超級(jí)電容器、鋰離子電池、吸附等方面的性能。
聲明:
“利用氨水插層、剝離二維晶體碳化鈦納米材料的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)