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復(fù)合鈦氧化膜及其形成方法和鈦電解電容器

669   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 00:31:14
本發(fā)明提供一種利用形成在金屬鈦上的、表面介 電常數(shù)大的穩(wěn)定的復(fù)合鈦氧化膜的小型、大容量且漏電流少的 鈦電解電容器。上述復(fù)合鈦氧化膜形成在金屬鈦基體表面上, 為下式Mx (TiO3) y (這里的M為選自鋰、鎂、鈣、鍶、鋇及鑭中 至少一種的金屬離子,x等于 TiO3的原子價(jià),y等于金屬離子 M的原子價(jià))表示的復(fù)合鈦氧化物的膜,該膜的厚度在5μm以 下并且由平均粒徑為5-250nm的粒子構(gòu)成。該鈦電解電容器 使用具有該復(fù)合鈦氧化膜的金屬鈦基體作為陽極。
聲明:
“復(fù)合鈦氧化膜及其形成方法和鈦電解電容器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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