本申請涉及
污水處理技術的領域,尤其是涉及一種集控區(qū)高濃度COD
電鍍廢水集中處理系統(tǒng),其包括混凝沉淀池、集中池和后置集中處理系統(tǒng);所述混凝沉淀池設置有多個,多個所述混凝沉淀池分別用于供不同類型的電鍍廢水流入;多個所述混凝沉淀池均管道連接于所述集中池,所述集中池用于容納來自多個所述混凝沉淀池的上清液;所述后置集中處理系統(tǒng)用于將所述集中池內的液體處理至排放標準。本申請具有高效去除電鍍廢水中COD的同時兼顧節(jié)省制造和維護成本的效果。
聲明:
“集控區(qū)高濃度COD電鍍廢水集中處理系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)