本發(fā)明公開了一種印染廢水及污泥的超臨界水氧化處理系統(tǒng),包括濃縮預(yù)處理裝置、超臨界水氧化裝置、氧化劑供給裝置及廢水回收系統(tǒng);其中,所述濃縮預(yù)處理裝置包括廢液儲罐、納濾膜濃縮模塊及印染污泥儲池,所述氧化劑供給裝置包括液氧貯槽、液氧氣化器及緩沖罐,所述超臨界氧化裝置包括輔熱式超臨界水氧化反應(yīng)器、甲醇啟動預(yù)熱器、甲醇預(yù)熱器及廢液預(yù)熱器。本發(fā)明可以實現(xiàn)高濃度印染廢水及污泥的高效、清潔、低成本、無害化的處理。
聲明:
“印染廢水及污泥的超臨界水氧化處理系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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