本發(fā)明涉及一種自粘貼制光催化性能聚間苯二甲酰間苯二胺膜的方法與應用,制備方法包括:將聚間苯二甲酰間苯二胺(PMIA)配制得到鑄膜液,之后在分散有ZnO?Ag?TiO
2的溶液中進行凝膠浴,通過自粘貼法將光催化劑ZnO?Ag?TiO
2負載在PMIA膜上,制得PMIA光催化膜;該膜可用于提高對印染廢水中對有害物質六價鉻催化還原為三價鉻的能力。與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明將光催化劑ZnO?Ag?TiO
2固定在PMIA鑄膜表面,通過自粘貼法引入無機納米粒子改性的PMIA膜,減少了催化劑的流失回收難等問題,也使得親水性得到大幅增強的同時,并具有更好的光催化降解性能。
聲明:
“自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法與應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)