本發(fā)明提供了一種化學(xué)機械研磨設(shè)備的研磨性能檢測方法。包括:利用化學(xué)機械研磨設(shè)備研磨襯底,并形成一反射層在研磨之后的襯底上,從而可以對反射層進行光學(xué)檢測,在光學(xué)檢測過程中反射層能夠?qū)z測光束反射至一檢測感應(yīng)器上,檢測感應(yīng)器獲取針對于襯底表面的檢測信號,進而可以檢測出襯底表面是否存在研磨缺陷,由此判斷化學(xué)機械研磨設(shè)備的研磨性能。本發(fā)明中的化學(xué)機械研磨設(shè)備的研磨性能檢測方法,能夠有效提高化學(xué)機械研磨設(shè)備研磨性能的檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性,并且還有利于縮短檢測化學(xué)機械研磨設(shè)備的研磨性能所需的時間,提高了化學(xué)機械研磨設(shè)備的利用率。
聲明:
“化學(xué)機械研磨設(shè)備的研磨性能檢測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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