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晶圓級(jí)微透鏡陣列的測(cè)試結(jié)構(gòu)及其測(cè)試裝置

1017   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 06:30:36
本實(shí)用新型提供一種晶圓級(jí)微透鏡陣列的測(cè)試結(jié)構(gòu)及其測(cè)試裝置,測(cè)試結(jié)構(gòu)包括:晶圓放置組件和透光組件;晶圓放置組件包括外支撐環(huán)以及鏤空區(qū)域,用于放置形成有微透鏡陣列單元的待測(cè)晶圓,外支撐環(huán)邊緣具有缺口且包含限位邊界和放置臺(tái)階;透光組件,位于晶圓放置組件的一側(cè)表面,正對(duì)鏤空區(qū)域設(shè)置,邊緣固定于外支撐環(huán)。測(cè)試結(jié)構(gòu)用于將待測(cè)晶圓放置于鏤空區(qū)域,光源透過透光層產(chǎn)生具有測(cè)試圖形光場(chǎng),檢測(cè)待測(cè)晶圓上微透鏡的解析力和漏光等性能。測(cè)試裝置通過測(cè)試結(jié)構(gòu)進(jìn)行微透鏡性能檢測(cè),將拍攝到的待測(cè)晶圓的測(cè)試圖像與標(biāo)準(zhǔn)圖像比較,獲得測(cè)試結(jié)果,并根據(jù)測(cè)試結(jié)果輸出測(cè)試圖譜,定位有缺陷的微透鏡陣列單元的位置。
聲明:
“晶圓級(jí)微透鏡陣列的測(cè)試結(jié)構(gòu)及其測(cè)試裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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