本發(fā)明公開(kāi)了一種高硅硅鋼片的制作方法,涉及硅鋼片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,包括如下步驟:S1、取普通硅鋼片;S2、在普通硅鋼片表面涂硅層;S3、對(duì)涂層后的硅鋼片進(jìn)行高溫?cái)U(kuò)散;S4、檢測(cè)硅含量;S5、測(cè)試處理后的硅鋼片的磁性能;本發(fā)明所公開(kāi)的高硅硅鋼片的制作方法,采用等離子化學(xué)氣相沉積法在普通硅鋼片表面涂硅層,溫度低,時(shí)間短,工藝重現(xiàn)性好,表面光潔,化合物層可達(dá)10μm以上,并有非晶態(tài)形成,能滿足0.1mm厚鋼片達(dá)6.5%Si的要求,與相同底Si的無(wú)取向硅鋼片相比,鐵損P10/50降低50%以上,其它磁性能也大有改善。
聲明:
“一種高硅硅鋼片的制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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