本發(fā)明公開了一種化學(xué)氣體痕量
檢測(cè)儀,包括進(jìn)氣口、出氣口、第一氣泵、電磁閥組、氣流探測(cè)器、過濾管、第二氣泵、壓力探測(cè)器、離子漂移譜檢測(cè)單元和中央處理器。本發(fā)明通過設(shè)置氨鹽部件釋放氨氣摻雜劑,減少空氣中干擾氣體的干擾,從而能夠提高測(cè)量的準(zhǔn)確率,解決了現(xiàn)有技術(shù)離子漂移譜儀器誤判率高的問題;本發(fā)明采用氚源作為電離源,對(duì)待檢測(cè)氣體分子電離效率更高,并且電離源報(bào)廢后更便于處理,不會(huì)造成放射性污染。
聲明:
“化學(xué)氣體痕量檢測(cè)儀” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)