一種測(cè)定一機(jī)器系統(tǒng)(2)(尤其是一浮動(dòng)設(shè)備中的機(jī)器系統(tǒng))內(nèi)運(yùn)行用料的化學(xué)和/或物理特性的方法,其中,用光照射所述運(yùn)行用料并且對(duì)透射所述運(yùn)行用料或者被所述運(yùn)行用料反射的光進(jìn)行光譜分析,根據(jù)本發(fā)明,所述運(yùn)行用料受照時(shí)至少具有一選自一規(guī)定溫度范圍的溫度,優(yōu)選正好具有一規(guī)定溫度。在此情況下,即使出現(xiàn)例如浮動(dòng)設(shè)備所遇到的環(huán)境溫度變化,也能為所述光譜分析提供始終保持穩(wěn)定的框架條件,從而使分析精度得到改善。
聲明:
“測(cè)定機(jī)器系統(tǒng)內(nèi)運(yùn)行用料的化學(xué)和/或物理特性的方法與裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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