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帶hopping跳躍成像模式的電化學成像測量方法

997 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 06:46:32

本發(fā)明提供一種帶hopping跳躍成像模式的電化學成像測量方法，原理圖如圖2所示。實驗時探針從距離樣品基底H高度的位置開始向下步進，當檢測到的電流達到電流閾值I時探針停止移動，記錄此時探針的移動距離D，用H?D作為這個點的檢測值，然后自動返回到H高度上繼續(xù)下一個點的檢測。帶hopping跳躍成像模式的電化學成像測量方法可以防止探針與被測樣品發(fā)生剛性接觸，避免損壞探針。且電化學成像測量結果中的每個檢測點都足夠接近被測樣品表面，使電化學成像的分辨率得到顯著的提高。

聲明：

“帶hopping跳躍成像模式的電化學成像測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)