本發(fā)明公開(kāi)了一種輻照環(huán)境下高溫高壓水化學(xué)循環(huán)回路腐蝕測(cè)試裝置,包括高溫高壓循環(huán)單元,用以提供高溫高壓運(yùn)行環(huán)境;工藝參數(shù)測(cè)量單元,與高溫高壓循環(huán)單元連接,以實(shí)現(xiàn)高溫高壓循環(huán)回路出水的水化學(xué)參數(shù)測(cè)量;其中,高溫高壓循環(huán)單元的反應(yīng)大釜置于非放環(huán)境中,反應(yīng)小釜置于由水屏蔽的γ場(chǎng)下,以開(kāi)展輻照環(huán)境和非輻照環(huán)境中的腐蝕或水化學(xué)試驗(yàn);γ場(chǎng)為均勻劑量場(chǎng),劑量率為1000~1500Gy/h。本發(fā)明的腐蝕測(cè)試裝置可同時(shí)應(yīng)用于輻照環(huán)境和非輻照環(huán)境中,高溫高壓條件下的材料腐蝕特性研究,對(duì)比材料在不同工況下的均勻腐蝕和
電化學(xué)腐蝕情況,模擬材料腐蝕過(guò)程的真實(shí)環(huán)境;同時(shí)還可研究不同的水化學(xué)條件對(duì)材料腐蝕的影響。
聲明:
“輻照環(huán)境下高溫高壓水化學(xué)循環(huán)回路腐蝕測(cè)試裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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