本發(fā)明公開了環(huán)境PLD生長及
電化學性能測試系統(tǒng)、方法及用途。該系統(tǒng)包括:脈沖激光沉積腔室、靶材屏蔽盒、激光發(fā)射裝置、電化學工作站、反射高能電子衍射儀、配套使用的熒屏和CCD相機、真空手套箱和抽真空設備,其中通過電機驅(qū)動樣品托在豎直方向上順時針或逆時針旋轉(zhuǎn),靶材屏蔽盒可周期性移動,其頂壁設有偏心通孔且內(nèi)部內(nèi)設有多個沿靶材屏蔽盒周向布置的子屏蔽區(qū),多個子屏蔽區(qū)互不連通且可相對于靶材屏蔽盒的頂壁旋轉(zhuǎn)。采用該系統(tǒng)能夠在超清潔的環(huán)境下獲得電極材料的電化學性能,消除樣品測試前轉(zhuǎn)移樣品過程中氣相雜質(zhì)的污染,同時可在系統(tǒng)中通入不同種類的氣體,調(diào)節(jié)氣體的濕度,研究其對電極材料的影響,提高測試的準確性。
聲明:
“環(huán)境PLD生長及電化學性能測試系統(tǒng)、方法及用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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