本發(fā)明涉及一種偵測(cè)化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺(tái)水槽上/下位置的裝置及方法,該裝置包含:一個(gè)用于為研磨晶片提供無污染環(huán)境的水槽;一個(gè)用于控制上述水槽上下運(yùn)動(dòng)的氣缸;一個(gè)安裝于上述氣缸的磁璜開關(guān);一個(gè)用于實(shí)現(xiàn)偵測(cè)目的互鎖信號(hào)電路;上述磁璜開關(guān)串聯(lián)接入上述互鎖信號(hào)電路中。當(dāng)水槽處于上方位置時(shí),磁璜開關(guān)導(dǎo)通,互鎖信號(hào)回路導(dǎo)通,從而使得機(jī)臺(tái)開始工作;當(dāng)水槽處于下方位置時(shí),磁璜開關(guān)不導(dǎo)通,互鎖信號(hào)不滿足,機(jī)臺(tái)手臂無法歸位繼續(xù)生產(chǎn),使得機(jī)臺(tái)停止正常的生產(chǎn)狀態(tài)。從而保證在操作人員沒有升起水槽的狀態(tài)下,機(jī)臺(tái)無法工作,可以避免因水槽沒有升起而導(dǎo)致產(chǎn)品的污染,以及機(jī)械手臂的刀片背面粘片造成的拖片掉片風(fēng)險(xiǎn)。