本發(fā)明公開(kāi)了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的修整器和化學(xué)機(jī)械拋光裝置，修整器包括基座組件、傳動(dòng)軸和修整組件，所述傳動(dòng)軸同軸設(shè)置于所述基座組件內(nèi)，所述修整組件設(shè)置于所述基座組件下側(cè)并隨所述傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)；所述基座組件內(nèi)設(shè)置有磁敏傳感器，所述修整組件內(nèi)設(shè)置有磁鐵，所述磁敏傳感器檢測(cè)所述磁鐵形成的磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度以測(cè)量修整組件相對(duì)于基座組件的位置；所述磁敏傳感器與磁鐵之間的豎直距離為2mm?10mm。