本發(fā)明提供一種研磨?化學(xué)機(jī)械拋光氮化鎵晶圓片的方法,所述方法至少包括對(duì)所述氮化鎵晶圓片的鎵面進(jìn)行處理的步驟:首先將所述氮化鎵晶圓片固定于研磨平臺(tái)上,鎵面面向研磨頭;然后利用XRD測(cè)量方法確定所述氮化鎵晶圓片的研磨基面,將具有一定目數(shù)的研磨頭與所述研磨基面平行并壓覆于所述鎵面上,在研磨液作用下將所述鎵面研磨至第一粗糙度;接著更換研磨頭至更高目數(shù),重復(fù)上一步驟直至將所述鎵面研磨至第二粗糙度,所述第二粗糙度小于所述第一粗糙度;最后將所述氮化鎵晶圓片固定于化學(xué)機(jī)械拋光平臺(tái)上,將所述鎵面拋光至符合工藝要求的表面粗糙度。通過(guò)本發(fā)明的方法為直接研磨方式,簡(jiǎn)化了工藝步驟,降低物料消耗,縮短工藝時(shí)間,降低破損率。
聲明:
“研磨?化學(xué)機(jī)械拋光氮化鎵晶圓片的方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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