本實(shí)用新型公開(kāi)了一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備,包括爐管和放置于所述爐管內(nèi)的晶舟,所述晶舟包括第一端部和與所述第一端部相對(duì)的第二端部,在所述第一端部和第二端部之間具有多個(gè)相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽,且每個(gè)所述晶片插槽具有至少兩個(gè)相互分離、用于支撐晶片的支撐架,其中,每一個(gè)所述支撐架所在的平面向所述第一端部所在的平面傾斜第一角度。本實(shí)用新型還公開(kāi)了對(duì)應(yīng)的一種應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的晶舟。采用本實(shí)用新型的化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其晶舟,可以有效解決晶片在化學(xué)氣相沉積后水平檢測(cè)不過(guò)關(guān)的問(wèn)題。
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