本發(fā)明公開了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的承載頭,其包括承載盤、彈性膜和保持環(huán),所述彈性膜設(shè)置于承載盤的下方,所述保持環(huán)設(shè)置于所述彈性膜的外周側(cè)并位于承載盤的底部;所述彈性膜包括底板部、直立部和水平部,所述底板部為盤狀結(jié)構(gòu),直立部沿所述底板部的外緣豎直向上延伸,所述水平部自所述直立部的頂端水平向內(nèi)延伸;還包括應(yīng)變檢測件和位置調(diào)節(jié)件,應(yīng)變檢測件沿周向設(shè)置于承載盤的底部,并且,所述彈性膜加壓后,所述水平部抵接于應(yīng)變檢測件,以測量水平部的應(yīng)力信息;位置調(diào)節(jié)件與應(yīng)變檢測件水平相鄰設(shè)置于承載盤,位置調(diào)節(jié)件能夠抵接于水平部,其基于應(yīng)變檢測件的測量值調(diào)節(jié)水平部的應(yīng)力,使得水平部構(gòu)成的腔室沿圓周方向的變形均勻。
聲明:
“用于化學(xué)機(jī)械拋光的承載頭、拋光系統(tǒng)和拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)