一種通用化學機械拋光液,屬于
超硬材料超精密加工領域,其成分包含氧化鋯磨料、硅酸鈉分析純試劑、去離子水。室溫下,將磨料氧化鋯、硅酸鈉、分別加入去離子水中,超聲設備中震蕩5分鐘得到化學機械拋光液。所述拋光液中,氧化鋯濃度為0.05~0.09g/ml,粒徑為0.05~0.2μm,所述的硅酸鈉濃度為0.05~0.12g/ml。該化學機械拋光液具有通用性,能夠用于拋光藍寶石晶體,石英、金剛石、硅片、鎢合金材料。相較于傳統拋光液,晶體表面粗糙度降低,無損傷缺陷。且該新型拋光液的成本低廉,無需特殊工藝合成,并且所有組分均不會造成環(huán)境污染。
聲明:
“通用化學機械拋光液” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)