本發(fā)明公開(kāi)了一種實(shí)現(xiàn)化學(xué)機(jī)械研磨過(guò)程中拋光液溫度控制的系統(tǒng),包括第一溫度探測(cè)器、第二溫度探測(cè)器、第三溫度探測(cè)器、保溫套、溫度控制器和主控制器,第一溫度探測(cè)器和第二溫度探測(cè)器分別設(shè)于拋光液存放容器內(nèi)和拋光液存放容器的輸出端,保溫套包裹在拋光液存放容器輸出端連接的輸出管道的外表面,第三溫度探測(cè)器設(shè)在研磨墊附近,溫度控制器設(shè)在拋光液存放容器供給端,第一溫度探測(cè)器、第二溫度探測(cè)器、第三溫度探測(cè)器和溫度控制器分別與主控制器連接。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)化學(xué)機(jī)械研磨過(guò)程中拋光液溫度控制的系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了晶圓在化學(xué)機(jī)械研磨過(guò)程中的溫度控制,提高了晶圓的產(chǎn)出率和穩(wěn)定性。
聲明:
“實(shí)現(xiàn)化學(xué)機(jī)械研磨過(guò)程中拋光液溫度控制的系統(tǒng)” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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