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化學腐蝕硅通孔面過電鍍銅層的裝置及方法

1077 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 07:00:51

本發(fā)明提供了一種化學腐蝕硅通孔面過電鍍銅層的裝置及方法，所述裝置包括：在銅腐蝕槽內設有一測距傳感器用于測量槽內液位，銅腐蝕槽的底部設有腐蝕液的進口和出口，分別安裝進口閥門和出口閥門；還包括用于把持晶圓片的機械臂桿，用于將TSV電鍍后的晶圓片表面浸入銅腐蝕槽內的腐蝕液中；所述測距傳感器、進口閥門、出口閥門和機械臂桿的控制器均連接到總的控制器或計算機。本發(fā)明的優(yōu)點是：本發(fā)明基于化學腐蝕銅和CMP工藝結合去除表面過厚銅層的思想，設計了一種化學濕法刻蝕銅的簡易裝置。可有效解決TSV過電鍍的問題，采用先濕法腐蝕銅的方法，除去多數(shù)銅，為CMP銅工藝減輕負擔，降低成本。

聲明：

“化學腐蝕硅通孔面過電鍍銅層的裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)