一種用于拋光含有金屬的基板的含水化學(xué)機(jī)械拋光組合物,其包含基本上由以硅鋁酸鹽層改性的初級(jí)顆粒組成的研磨劑顆粒,并且其中該研磨劑顆粒具有在PH 2.3下測(cè)得的約-5MV~約-100MV的Ζ電位。該組合物可用于拋光含有鎢的基板的表面。
聲明:
“含有金屬的基板的化學(xué)機(jī)械拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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