用于消除通過CVD過程,例如,用于在襯底上形成鈦酸鍶鋇(BST)薄膜的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積過程(MOCVD)沉積多組分金屬氧化物所產(chǎn)生的流出物的裝置和方法,該CVD過程使用含有至少一種金屬配位絡(luò)合物和用于溶解該金屬配位絡(luò)合物的適當(dāng)溶劑介質(zhì)的金屬源試劑液體溶液,所述的金屬配位絡(luò)合物包含在穩(wěn)定絡(luò)合物中與至少一個配體配位結(jié)合的金屬。對流出物進(jìn)行吸附處理,以除去流出物中的前體物和MOCVD過程的副產(chǎn)物。可以使用末端監(jiān)測器(62),如石英微量天平監(jiān)測器監(jiān)測吸附處理裝置中開始漏出的情況。
聲明:
“使用配體交換耐蝕金屬有機(jī)前體溶液的化學(xué)氣相沉積過程的流出物的消除” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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