本揭示提供一種化學(xué)氣相沉積機臺之板狀構(gòu)件的平坦度處理方法,其包含:(a)繪制對應(yīng)于一CVD板狀構(gòu)件的一座標系,該座標系上包含若干個座標點;(b)量測每個座標點的平坦度;(c)判斷各個座標點的平坦度是否符合一預(yù)定平坦度;以及(d)若該各個座標點的平坦度不符合該預(yù)定平坦度,則在常溫下以一壓頭向需要進行平坦度調(diào)整的座標點施予壓力,并回到步驟(b)和(c)。本揭示能夠減少CVD板狀構(gòu)件的平坦度調(diào)整時間。
聲明:
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