本實(shí)用新型公開了一種密封式化學(xué)拋光裝置,包括拋光機(jī)和設(shè)于拋光機(jī)內(nèi)的拋光腔,其還包括設(shè)于拋光機(jī)上用于測量拋光腔內(nèi)壓強(qiáng)的氣壓計(jì),與拋光腔連通的抽真空裝置,分別與所述氣壓計(jì)以及抽真空裝置連接的控制器。本實(shí)用新型通過設(shè)置抽真空裝置將拋光機(jī)的拋光腔抽成真空狀態(tài),這樣工件在拋光腔內(nèi)加工時(shí),不會被空氣氧化,進(jìn)而提高了工件的拋光加工質(zhì)量。
聲明:
“密封式化學(xué)拋光裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)