本發(fā)明涉及一種消除栽培基質(zhì)顆粒表面散射及水分影響的光譜檢測(cè)方法，包括如下步驟：S1、栽培基質(zhì)顆?？焖俑稍锶コ乃?；S2、栽培基質(zhì)顆?？焖俜鬯?；S3、利用目數(shù)≥50目的標(biāo)準(zhǔn)篩網(wǎng)對(duì)粉碎栽培基質(zhì)顆粒進(jìn)行篩選；S4、篩選后的栽培基質(zhì)顆粒光譜數(shù)據(jù)采集；S5、采用理化實(shí)驗(yàn)測(cè)定栽培基質(zhì)顆粒待測(cè)化學(xué)成分理化值；S6、以3：1的比例將樣品集劃分為校正集和驗(yàn)證集；S7、對(duì)校正集光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理，并利用校正集建立栽培基質(zhì)顆粒實(shí)測(cè)理化值與預(yù)處理光譜數(shù)據(jù)之間的關(guān)系模型，再利用驗(yàn)證集數(shù)據(jù)檢驗(yàn)?zāi)Ｐ偷念A(yù)測(cè)性能。該模型用于栽培基質(zhì)顆?；瘜W(xué)成分的快速檢測(cè)，并能有效地消除栽培基質(zhì)顆粒表面散射和水分對(duì)光譜預(yù)測(cè)結(jié)果的影響。