本發(fā)明主要涉及用于光刻模型校準(zhǔn)的圖案選擇的方法和設(shè)備。根據(jù)一些方面,本發(fā)明的圖案選擇算法可以被應(yīng)用于任何已有的候選測(cè)試圖案池。根據(jù)一些方面,本發(fā)明自動(dòng)地選擇這些測(cè)試圖案,其能夠更有效地由已有的候選測(cè)試圖案池來(lái)確定優(yōu)化的模型參數(shù)值,如與設(shè)計(jì)優(yōu)化圖案相反。根據(jù)另外的方面,根據(jù)本發(fā)明的已選擇的測(cè)試圖案組能夠激發(fā)模型公式中的所有已知的物理和化學(xué)特性,確保測(cè)試圖案的晶片數(shù)據(jù)可以將模型校準(zhǔn)推動(dòng)成優(yōu)化的參數(shù)值,其實(shí)現(xiàn)了由模型公式施加的預(yù)測(cè)精度的上邊界。
聲明:
“用于光刻術(shù)模型校準(zhǔn)的圖案選擇” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)