本發(fā)明屬于材料腐蝕研究技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種可在單一或多組分微量氣體下實(shí)時(shí)原位觀測(cè)試樣腐蝕宏觀形貌以及薄液膜下的原位
電化學(xué)的測(cè)試裝置,所述測(cè)試裝置包括反應(yīng)室、微量腐蝕性氣體給氣系統(tǒng)、薄液膜腐蝕試驗(yàn)反應(yīng)系統(tǒng)、原位電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)、原位形貌采集系統(tǒng),在于提供一種用于微量腐蝕性氣體氛圍下的薄液膜原位測(cè)試裝置,解決以往設(shè)備使用過程中費(fèi)用昂貴、操作冗雜、裝置精度低、氣源單一、沒有形貌和電化學(xué)原位觀測(cè)相耦合的問題,實(shí)現(xiàn)一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、多組分氣源、形貌和電化學(xué)原位觀測(cè)相耦合的高精度ppb級(jí)的微量腐蝕性氣氛中薄液膜環(huán)境測(cè)試裝置。
聲明:
“用于微量腐蝕性氣體氛圍下的薄液膜原位測(cè)試裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)