本實(shí)用新型提供一種流量探測(cè)裝置,用以探測(cè)化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的液體流量是否符合要求,所述流量探測(cè)裝置包括流量計(jì)以及設(shè)置于所述流量計(jì)上的光學(xué)傳感器,當(dāng)所述流量探測(cè)裝置探測(cè)到化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的液體流量不符合要求時(shí),報(bào)警裝置報(bào)警通知操作人員,可確保晶片的清洗效果。
聲明:
“流量探測(cè)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)