本文的實施方式提供了一種用于在諸如等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝之類的等離子體增強沉積工藝期間直接地監(jiān)測襯底的溫度的襯底溫度監(jiān)測系統(tǒng)。在一個實施方式中,一種襯底支撐組件包括:支撐軸;襯底支撐件,所述襯底支撐件設(shè)置在所述支撐軸上;以及襯底溫度監(jiān)測系統(tǒng),所述襯底溫度監(jiān)測系統(tǒng)用于測量待設(shè)置在所述襯底支撐件上的襯底的溫度。所述襯底溫度監(jiān)測系統(tǒng)包括光纖管、耦接到所述光纖管的光導(dǎo)、以及圍繞所述光纖管和所述光導(dǎo)的接合處設(shè)置的冷卻組件。在本文中,所述光導(dǎo)的至少一部分設(shè)置在延伸穿過所述支撐軸并進入所述襯底支撐件的開口中,并且所述冷卻組件在襯底處理期間維持所述光纖管處于低于約100℃的溫度。
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“在高溫陶瓷加熱器上的集成襯底溫度測量” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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