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基于多重稀釋法的半導體溶劑ICP-MS測定方法

1060 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 07:27:49

本發(fā)明提供一種基于多重稀釋法的半導體化學品ICP?MS測定方法，包括如下步驟：首先將不能與水混合的待測定的半導體溶劑，加入助溶溶劑成為混合有機溶劑；然后將混合有機溶劑加純水稀釋得到1#稀釋樣品；再將1#稀釋樣品再加入純水進行稀釋得到2#稀釋樣品；對于待測定的半導體溶劑中的一種元素，以1#稀釋樣品，用電感耦合等離子質(zhì)譜儀掃描得到標準曲線并計算出1#稀釋樣品的濃度C1；同理計算出2#稀釋樣品中該種元素的濃度C2；并將結(jié)果帶入擬合算法公式，得到該元素在待測定的半導體溶劑中的濃度。本發(fā)明通過同一樣品不同稀釋倍數(shù)法，對混合基體ICP?MS測定的信號值進行背景擬合運算，實現(xiàn)痕量元素的準確測定。

聲明：

“基于多重稀釋法的半導體溶劑ICP-MS測定方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)