本發(fā)明公開了一種非制冷紅外焦平面探測器光學(xué)窗口的濕法腐蝕方法,包括:以等離子體化學(xué)氣相沉積法在硅片襯底兩面生長二氧化硅介質(zhì)層;采用直流磁控濺射方法在介質(zhì)層上依次沉積鉻、金形成金屬層;通過光刻法在襯底第一底面金屬層上形成一次圖形的光刻膠層;采用離子束刻蝕方法刻蝕光刻膠掩膜之外襯底第一底面的金屬層;腐蝕光刻膠掩膜之外襯底第一底面的二氧化硅層;去除光刻膠層;以剩余的介質(zhì)層和金屬層作為掩膜保護(hù)層,腐蝕硅片形成腐蝕深度大于100μm的光學(xué)窗口腔體;以及去除掩膜保護(hù)層,得到圖形化的光學(xué)窗口。本發(fā)明通過以介質(zhì)層和金屬層為掩膜保護(hù)層,在不增加成本、不改變濕法腐蝕液的前提下,達(dá)到了選擇性濕法腐蝕光學(xué)窗口的目的。
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“非制冷紅外焦平面探測器光學(xué)窗口的濕法腐蝕方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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