本發(fā)明公開了一種發(fā)光材料Cu2(etmp)4及合成方法。發(fā)光材料Cu2(etmp)4的分子式為:C44H44Cu2N16O8,分子量為:1052.05, Hetmp為3?乙氧基水楊醛縮?4?氨基?1, 2, 4?三氮唑希夫堿。將0.056g?0.112g分析純3?乙氧基水楊醛縮?4?氨基?1, 2, 4?三氮唑希夫堿和0.040?0.080g分析純乙酸銅混合,溶于5?10mL分析純N, N’?二甲基甲酰胺溶液中,攪拌20分鐘后加入分析純乙腈5?10mL,繼續(xù)攪拌20分鐘后,室溫下靜置3天后,得到Cu2(etmp)4。Cu2(etmp)4在301nm的入射光照射下產(chǎn)生153.3a.u.強(qiáng)度的465nm的熒光;在900V的光電倍增管,3倍的放大系數(shù)下,過硫酸鉀溶液中,產(chǎn)生了850a.u.強(qiáng)度且穩(wěn)定的發(fā)光。本發(fā)明工藝簡單、成本低廉、化學(xué)組分易于控制、重復(fù)性好且產(chǎn)量高。
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“發(fā)光材料Cu2(etmp)4及合成方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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